EUV
極紫外光刻（Extreme Ultra-violet），常稱作EUV光刻，它以波長(zhǎng)為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術(shù)。具體為采用波長(zhǎng)為13.4nm 的紫外線。極紫外線就是指需要通過通電激發(fā)紫外線管的K極然后放射出紫外線。
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EUV光刻機(jī)困住高端芯片 復(fù)旦教授點(diǎn)明國產(chǎn)芯片新方向
無論是信息化時(shí)代到來, 芯片在電子產(chǎn)品中的重要性日趨凸顯;還是華為因?yàn)楦叨诵酒┎粦?yīng)求,導(dǎo)致手機(jī)業(yè)務(wù)受阻,都讓國內(nèi)芯片廠商看到了芯片國產(chǎn)化替代的重要性。為了實(shí)現(xiàn)芯片的國產(chǎn)化自研,中芯國際、紫光展銳等國產(chǎn)芯片廠商投入大量的研究資本以及人力尋求突破
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ASML最新EUV光刻機(jī)曝光：精細(xì)到1nm
全世界能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的廠商就一家,那就是荷蘭的ASML。為何只有ASML能夠生產(chǎn)EUV光刻機(jī)?原因在于ASML綁定了好多的巨頭,且是獨(dú)家合作的,比如蔡司、比如德國TRUMPF公司,這些巨頭在極紫外線制造技術(shù),收集技術(shù)上達(dá)到極致,無可取代
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同樣制造光刻機(jī)，日本佳能、尼康為何在EUV上掉隊(duì)？
ASML已經(jīng)成為了全球第一大光刻機(jī)廠商，而且最頂尖的EUV光刻機(jī)更是獨(dú)家壟斷。日前與媒體交流時(shí)，ASML技術(shù)開發(fā)副總裁Tony Yen確認(rèn)了此前外界的猜測(cè)，他表示EUV光刻機(jī)目前有三大客戶，分別是臺(tái)積電、三星和Intel
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ASML宣布在臺(tái)灣建海外培訓(xùn)中心 旨在輔導(dǎo)臺(tái)積電EUV光刻制造集群
ASML近日宣布，將在臺(tái)灣的南部科學(xué)園區(qū)建立自己在海外（荷蘭之外）的首個(gè)培訓(xùn)中心，旨在就近輔導(dǎo)臺(tái)積電所領(lǐng)導(dǎo)EUV光刻制造集群。
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