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制氫電源是實(shí)現(xiàn)電氫耦合的關(guān)鍵,將迎來(lái)多方面技術(shù)突破

制氫電源將在功率、效率、整流質(zhì)量等方面不斷突破

2023年,制氫電源市場(chǎng)逐漸火熱,傳統(tǒng)電力設(shè)備企業(yè)、氯堿電源企業(yè)等紛紛布局制氫電源賽道。

相對(duì)傳統(tǒng)電源,制氫電源需匹配風(fēng)光電力的波動(dòng)性、以及電解槽大功率用電特征,從而給其技術(shù)及設(shè)計(jì)策略帶來(lái)了新的挑戰(zhàn)。能景研究結(jié)合相關(guān)資料及國(guó)內(nèi)外電源企業(yè)技術(shù)特征,對(duì)制氫電源的難點(diǎn)及技術(shù)方向進(jìn)行了分析,以供行業(yè)參考。

01制氫電源是實(shí)現(xiàn)電氫耦合的核心電力設(shè)備之一

制氫電源一般指整流器或直流變換器。在可再生電力制氫網(wǎng)絡(luò)中,起到向上承接電網(wǎng)電力,向下為制氫電解槽供電的功能:

對(duì)電網(wǎng)來(lái)說(shuō),制氫電源是直接用電負(fù)載器件。制氫電源用電的過(guò)程也是與電網(wǎng)交互的過(guò)程,其用電穩(wěn)定性、對(duì)電網(wǎng)的響應(yīng)特性、反饋特性等對(duì)電網(wǎng)連接安全、發(fā)電設(shè)備壽命等均有重要影響。

對(duì)制氫電解槽來(lái)說(shuō),制氫電源主要負(fù)責(zé)提供穩(wěn)定、符合電解槽電壓要求的直流電。在交流電網(wǎng)下,制氫電源及變壓器將電網(wǎng)的交流電轉(zhuǎn)化為直流電,供給電解槽使用;在直流電網(wǎng)下,則負(fù)責(zé)直接承接來(lái)自母線(xiàn)的高壓直流電,降壓調(diào)壓至電解槽需要的范圍。

目前,市場(chǎng)上的制氫電源主要有晶閘管電源(SCR整流器)、絕緣柵雙極晶體管電源(IGBT整流器)兩大技術(shù)路線(xiàn):

晶閘管電源適用于大功率用電場(chǎng)景,技術(shù)相對(duì)成熟。晶閘管整流器已在氯堿行業(yè)應(yīng)用40多年,功率通?蛇_(dá)MW級(jí)。而由于氯堿電解槽與現(xiàn)階段的堿式制氫電解槽在用電參數(shù)等方面較為相似,因此在穩(wěn)定電力環(huán)境下,晶閘管整流器可直接移植到制氫行業(yè)應(yīng)用。

IGBT整流器具有電網(wǎng)友好的特征,大功率技術(shù)尚在起步階段,F(xiàn)階段,IGBT主要應(yīng)用于充電器等中小功率場(chǎng)景,相對(duì)晶閘管電源,IGBT電源可減少整流過(guò)程中產(chǎn)生的諧波含量,從而減少對(duì)電網(wǎng)及發(fā)電設(shè)施的危害。近年來(lái)大功率IGBT技術(shù)逐漸國(guó)產(chǎn)化,在制氫等MW級(jí)大功率用電場(chǎng)景也逐漸展開(kāi)應(yīng)用。

02可再生能源制氫場(chǎng)景下,制氫電源面臨多方面技術(shù)挑戰(zhàn)

相對(duì)傳統(tǒng)用電場(chǎng)景,可再生能源制氫存在用電功率大、風(fēng)光電力周期性波動(dòng)等新的特征。而制氫電源既需要迎合電力供應(yīng)波動(dòng),又需要符合電解槽穩(wěn)定高效運(yùn)行要求,因此產(chǎn)生了來(lái)自多方面的技術(shù)挑戰(zhàn):

一是針對(duì)電解槽,制氫電源需匹配制氫電解槽不斷突破的功率需求。

在傳統(tǒng)工業(yè)、交通等場(chǎng)景中,傳統(tǒng)電源容量需求一般不超過(guò)6 MW。比如典型大功率場(chǎng)景—氯堿行業(yè)中,以蒂森克虜伯的代表產(chǎn)品n-BiTAC氯堿槽為例,單槽運(yùn)行功率約5.4 MW,對(duì)應(yīng)電源容量需求在6 MW左右。

而在制氫電解槽方面,各企業(yè)推出的堿性電解槽對(duì)電源容量需求或可超過(guò)20 MW。如蒂森克虜伯推出的20 MW scalum制氫模塊,國(guó)內(nèi)隆基推出的15 MW堿性電解槽。同時(shí)國(guó)內(nèi)制氫項(xiàng)目采用的單槽功率及電源容量也呈現(xiàn)提高趨勢(shì),如2023年上半年華能東方氫能產(chǎn)業(yè)園項(xiàng)目采購(gòu)6.5 MW電解槽,配套8.3 MW制氫電源。

二是針對(duì)電網(wǎng),制氫電源需符合低諧波等電網(wǎng)安全規(guī)范。

在相對(duì)穩(wěn)定的電網(wǎng)供電場(chǎng)景下,傳統(tǒng)工業(yè)電源已有較多降低諧波的方案。如在氯堿場(chǎng)景,一般采用晶閘管電源,為消除諧波達(dá)往往采用外配諧波補(bǔ)償裝置、或由6脈波拓?fù)涓挠?2脈波等多脈波拓?fù),抵消諧波。

在可再生能源制氫場(chǎng)景中,電力波動(dòng)特性提高了降低諧波難度。一方面,電力波動(dòng)下,諧波補(bǔ)償裝置發(fā)生過(guò)載、燒毀的概率增大;另一方面,在整流器負(fù)載不足或過(guò)載時(shí),諧波消除效果可能下降,導(dǎo)致與電網(wǎng)斷開(kāi)、或危害風(fēng)電電機(jī)等后果。

三是針對(duì)長(zhǎng)期運(yùn)營(yíng),需保障可再生能源制氫場(chǎng)景下具備高整流效率(節(jié)約電耗)。

對(duì)傳統(tǒng)工業(yè)場(chǎng)景,一般僅需保證電源在滿(mǎn)負(fù)荷運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)具有高整流效率。這是因?yàn)閭鹘y(tǒng)工業(yè)場(chǎng)景采用相對(duì)穩(wěn)定的電網(wǎng)電力,電源(整流器)只需按照用電需求進(jìn)行匹配設(shè)計(jì),無(wú)需考慮運(yùn)行功率發(fā)生較大波動(dòng)。此時(shí),一般電源整流效率在95%以上,部分產(chǎn)品可達(dá)99%;即電能在電源環(huán)節(jié)的損失通常低于5%,甚至可低于1%。

對(duì)制氫場(chǎng)景,則需保障制氫電源在低負(fù)荷運(yùn)行條件下同樣具有較高效率。這是因?yàn)榭稍偕茉淳哂休^高波動(dòng)性,按照海外某綠氫項(xiàng)目披露數(shù)據(jù),其運(yùn)行15年的時(shí)間內(nèi),僅5%左右的時(shí)間制氫系統(tǒng)可達(dá)100%負(fù)荷運(yùn)轉(zhuǎn),而有45%的時(shí)間內(nèi)負(fù)荷低于12.5%。按照某常規(guī)IGBT整流器數(shù)據(jù),其12.5%負(fù)載時(shí)整流效率不足85%,即電力損失達(dá)到15%以上,相應(yīng)地制氫的電力成本上升了17%以上。

03多方案并行,制氫電源技術(shù)逐漸迭代升級(jí)

為匹配可再生能源制氫場(chǎng)景特征,國(guó)內(nèi)外電源廠(chǎng)家依托自身技術(shù)背景進(jìn)行產(chǎn)品升級(jí),在不同技術(shù)路線(xiàn)上形成了不同的解決方案。

能景研究認(rèn)為,制氫電源優(yōu)化策略主要有電路設(shè)計(jì)優(yōu)化、核心零部件優(yōu)化、管理策略?xún)?yōu)化等幾個(gè)方向。對(duì)于不同的技術(shù)路線(xiàn),其側(cè)重的優(yōu)化方向以及優(yōu)化策略有所差異。

一是在晶閘管電源路徑方面,主要以提高電力質(zhì)量為核心。主要技術(shù)突破方向有三方面:電路優(yōu)化,設(shè)計(jì)高效多脈波整流拓?fù)、配合無(wú)功補(bǔ)償裝置;智能化管理,包括更新管理策略、搭配優(yōu)化有載調(diào)壓開(kāi)關(guān)等,提高響應(yīng)特性;訂制化設(shè)計(jì),匹配不同電解槽特征進(jìn)行調(diào)整。

典型企業(yè)如湖北英特利等,依托在氯堿行業(yè)應(yīng)用經(jīng)驗(yàn),針對(duì)不同綠氫項(xiàng)目、不同電解槽等推出了不同拓?fù)、不同電氣參?shù)的多款制氫電源。

二是IGBT 電源路徑方面,將以大功率突破、以及提高低負(fù)載時(shí)整流效率等為重點(diǎn)。主要策略包括三方面:器件優(yōu)化,升級(jí)IGBT器件;電路優(yōu)化,設(shè)計(jì)新型開(kāi)關(guān)電路拓?fù)洌钆錈o(wú)功補(bǔ)償裝置等;模塊系統(tǒng)優(yōu)化,如針對(duì)模塊化IGBT進(jìn)行管理策略升級(jí)。

典型企業(yè)如中車(chē)時(shí)代電氣等,依托自身大容量IGBT器件生產(chǎn)研發(fā)基礎(chǔ),設(shè)計(jì)推出了5~10 MW級(jí)IGBT制氫電源,且可保證30%~110%負(fù)載范圍內(nèi)較高整流效率。

來(lái)源:能景研究

作者:新云

END

       原文標(biāo)題 : 技術(shù)|制氫電源是實(shí)現(xiàn)電氫耦合的關(guān)鍵,將迎來(lái)多方面技術(shù)突破

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